ഹാസ്റ്റെല്ലോയ്C4നിക്കൽ, ക്രോമിയം, മോളിബ്ഡിനം എന്നിവ ചേർന്ന ഒരു അലോയ് ആണ്. നാശത്തെ ചെറുക്കുന്നതിനുള്ള ഏറ്റവും വൈവിധ്യമാർന്ന അലോയ് ആയി ഇത് കണക്കാക്കപ്പെടുന്നു. ഈ അലോയ് വെൽഡിംഗ് താപത്തിന് വിധേയമാകുമ്പോൾ ധാന്യത്തിൻ്റെ അതിർത്തി അവശിഷ്ടങ്ങളുടെ രൂപീകരണത്തിനെതിരായ പ്രതിരോധം പ്രകടമാക്കുന്നു, ഇത് വെൽഡിഡ് അവസ്ഥയിൽ വിവിധ രാസപ്രക്രിയ പ്രയോഗങ്ങൾക്ക് അനുയോജ്യമാക്കുന്നു. കൂടാതെ, അലോയ്C4കുഴികൾ, സ്ട്രെസ്-കോറഷൻ ക്രാക്കിംഗ്, 1900°F വരെ ഓക്സിഡൈസിംഗ് അന്തരീക്ഷം എന്നിവയ്ക്കുള്ള മികച്ച പ്രതിരോധം പ്രകടിപ്പിക്കുന്നു. വൈവിധ്യമാർന്ന രാസ പരിതസ്ഥിതികളോട് ഇതിന് അസാധാരണമായ പ്രതിരോധമുണ്ട്.
അപേക്ഷകൾ:
1.പേപ്പർ വ്യവസായം: ഡൈജസ്റ്ററുകളും ബ്ലീച്ച് പ്ലാൻ്റുകളും.
2. പുളിച്ച വാതക പരിതസ്ഥിതികൾ: പുളിച്ച വാതകത്തിന് വിധേയമായ ഘടകങ്ങൾ.
3.ഫ്ലൂ-ഗ്യാസ് ഡീസൽഫ്യൂറൈസേഷൻ പ്ലാൻ്റുകൾ: ഫ്ലൂ-ഗ്യാസ് ഡീസൽഫ്യൂറൈസേഷൻ പ്ലാൻ്റുകളിൽ ഉപയോഗിക്കുന്ന ഉപകരണങ്ങൾ.
4.സൾഫ്യൂറിക് ആസിഡ് പരിതസ്ഥിതികൾ: സൾഫ്യൂറിക് ആസിഡ് പരിതസ്ഥിതിയിൽ ഉപയോഗിക്കുന്ന ബാഷ്പീകരണങ്ങൾ, ചൂട് എക്സ്ചേഞ്ചറുകൾ, ഫിൽട്ടറുകൾ, മിക്സറുകൾ.
5.സൾഫ്യൂറിക് ആസിഡ് റിയാക്ടറുകൾ: സൾഫ്യൂറിക് ആസിഡ് റിയാക്ടറുകളിൽ ഉപയോഗിക്കുന്ന ഉപകരണങ്ങൾ.
6.ഓർഗാനിക് ക്ലോറൈഡ് പ്രക്രിയ: ഓർഗാനിക് ക്ലോറൈഡ് പ്രക്രിയയിൽ ഉപയോഗിക്കുന്ന ഉപകരണങ്ങൾ.
7. ഹാലൈഡ് അല്ലെങ്കിൽ ആസിഡ് കാറ്റലിസ്റ്റ് പ്രക്രിയകൾ: ഹാലൈഡ് അല്ലെങ്കിൽ ആസിഡ് കാറ്റലിസ്റ്റുകൾ ഉപയോഗിക്കുന്ന പ്രക്രിയകളിൽ ഉപയോഗിക്കുന്ന ഉപകരണങ്ങൾ.
ഗ്രേഡ് | C276 | C22 | C4 | B3 | N | ||
കെമിക്കൽ രചന (%) | C | ≤0.01 | ≤0.015 | ≤0.015 | ≤0.02 | ≤0.01 | 0.04-0.08 |
Mn | ≤1 | ≤0.5 | ≤1 | ≤1 | ≤3 | ≤1 | |
Fe | 4-7 | 2-6 | ≤3 | ≤2 | ≤1.5 | ≤5 | |
P | ≤0.04 | ≤0.02 | ≤0.04 | ≤0.04 | – | ≤0.015 | |
S | ≤0.03 | ≤0.02 | ≤0.03 | ≤0.03 | – | ≤0.02 | |
Si | ≤0.08 | ≤0.08 | ≤0.08 | ≤0.1 | ≤0.1 | ≤1 | |
Ni | വിശ്രമം | വിശ്രമം | വിശ്രമം | വിശ്രമം | ≥65 | വിശ്രമം | |
Co | ≤2.5 | ≤2.5 | ≤2 | ≤1 | ≤3 | ≤0.2 | |
Ti+Cu | – | – | ≤0.7 | – | ≤0.4 | ≤0.35 | |
അൽ+ടി | – | – | – | – | ≤0.5 | ≤0.5 | |
Cr | 14.5-16.5 | 20-22.5 | 14-18 | ≤1 | ≤1.5 | 6-8 | |
Mo | 15-17 | 12.5-14.5 | 14-17 | 26-30 | ≤28.5 | 15-18 | |
B | – | – | – | – | – | ≤0.01 | |
W | 3-4.5 | 2.5-3.5 | – | – | ≤3 | ≤0.5 | |
V | ≤0.35 | ≤0.35 | – | 0.2-0.4 | – | ≤0.5 |